半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業(yè)部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質標準。高純水設備是用于滿足各行業(yè)需求制取純水的設備,多用于醫(yī)藥、化學化工、半導體行業(yè),也都由全不銹鋼材質組合而成,采用反滲透,EDI等新工藝,比較有針對性地設計出成套高純水處理工藝,以滿足客戶高純水制取的用水要求。
二、工藝流程:
1、原水→原水箱→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級高壓泵→一級反滲透設備→二級高壓泵→二級反滲透設備→純水箱→增壓泵→EDI系統(tǒng)→純水箱→用水點(出水電阻率:≥15兆歐厘米)